ASML en Intel Corporation kondigden vandaag de nieuwste fase aan van hun langdurige samenwerking op het gebied van geavanceerde halfgeleiderlithografietechnologie. Intel heeft zijn eerste inkooporder geplaatst bij ASML voor de levering van het eerste TWINSCAN EXE:5200 systeem in de sector – een extreem ultraviolet (EUV) hoog-volume productiesysteem met een hoge numerieke aperture en een productiviteit van meer dan 200 wafers per uur – als onderdeel van het High-NA samenwerkingskader op lange termijn van de twee bedrijven.
“Intel’s visie en vroege verbintenis met ASML’s High-NA EUV-technologie is een bewijs van haar niet-aflatende streven naar de Wet van Moore. In vergelijking met de huidige EUV-systemen levert onze innovatieve uitgebreide EUV-roadmap voortdurende lithografische verbeteringen op tegen lagere complexiteit, kosten, cyclustijd en energie die de chipindustrie nodig heeft om betaalbare schaalvergroting tot ver in het volgende decennium mogelijk te maken,” aldus ASML President en CTO Martin van den Brink.
Intel kondigde op zijn Accelerated-evenement in juli aan dat het van plan is de eerste High-NA-technologie in te zetten om zijn routekaart van transistorinnovaties mogelijk te maken. Intel kocht als eerste het eerdere TWINSCAN EXE:5000-systeem in 2018, en met de vandaag aangekondigde nieuwe aankoop vervolgt de samenwerking het pad voor Intels productieproductie met High-NA EUV beginnend in 2025.
Link magazine editie december thema 2021 Sociale Innovatie: Beter innoveren, beter produceren. Lees Link digitaal of vraag een exemplaar op: mireille.vanginkel@linkmagazine.nl’
“Intels focus is om in de voorhoede van de halfgeleiderlithografietechnologie te blijven en we hebben het afgelopen jaar onze EUV-expertise en -capaciteit uitgebouwd. In nauwe samenwerking met ASML zullen we High-NA EUV’s hoge-resolutie patronen inzetten als een van de manieren om de Wet van Moore voort te zetten en onze sterke geschiedenis van vooruitgang tot in de kleinste geometrieën te behouden,” zegt Dr. Ann Kelleher, executive vice president en general manager van Technology Development bij Intel.
Het EXE-platform is een evolutionaire stap in de EUV-technologie en omvat een nieuw optisch ontwerp en aanzienlijk snellere reticle- en wafertrappen. De TWINSCAN EXE:5000 en EXE:5200 systemen bieden een numerieke apertuur van 0,55 – een precisiestijging ten opzichte van eerdere EUV-machines met een lens met een numerieke apertuur van 0,33 – om patroonvorming met een hogere resolutie mogelijk te maken voor nog kleinere transistorelementen. De numerieke apertuur van het systeem, in combinatie met de gebruikte golflengte, bepaalt het kleinste afdrukbare onderdeel.
EUV 0,55 NA is ontworpen om meerdere toekomstige nodes mogelijk te maken, te beginnen in 2025 als de eerste toepassing in de industrie, gevolgd door geheugentechnologieën met een vergelijkbare dichtheid. Tijdens de 2021 Investor Day deelde ASML haar EUV roadmap en gaf aan dat High-NA technologie naar verwachting in 2025 de productie zal gaan ondersteunen. De aankondiging van vandaag is in overeenstemming met deze roadmap.
