ASML en Intel Corporation kondigden vandaag de nieuwste fase aan van hun langdurige samenwerking om de allernieuwste technologie voor halfgeleiderlithografie te kopen. Intel heeft zijn eerste inkooporder aan ASML verstrekt voor de levering van het eerste TWINSCAN EXE:5200-systeem in de branche – een extreem ultraviolet (EUV) productiesysteem voor grote volumes met een hoge numerieke apertuur en een productiviteit van meer dan 200 wafers per uur – als onderdeel van het langetermijn High-NA-samenwerkingskader van de twee bedrijven.
“Intel’s visie en vroege toewijding aan ASML’s High-NA EUV-technologie is het bewijs van zijn niet-aflatende streven naar de wet van Moore. Vergeleken met de huidige EUV-systemen biedt onze innovatieve, uitgebreide EUV-roadmap voortdurende lithografische verbeteringen tegen verminderde complexiteit, kosten, cyclustijd en energie die de chipindustrie nodig heeft om betaalbare schaalvergroting tot ver in het volgende decennium mogelijk te maken”, aldus ASML President en CTO Martin van den Brink.
Intel kondigde tijdens zijn Accelerated-evenement in juli aan dat het van plan is de eerste High-NA-technologie in te zetten om zijn roadmap van transistorinnovaties mogelijk te maken. Intel was de eerste die het eerdere TWINSCAN EXE:5000-systeem in 2018 kocht, en met de nieuwe aankoop die vandaag is aangekondigd, zet de samenwerking de weg voort voor Intel’s productieproductie met High-NA EUV vanaf 2025.
Link magazine december/januari 2023/2024: Vertrouwen in de keten, niet alleen voor relaties tussen bedrijven; ook tussen afdelingen binnen een organisaties. Lees Link magazine digitaal of vraag een exemplaar op bij mireille.vanginkel@linkmagazine.nl
“De focus van Intel is om voorop te blijven lopen op het gebied van halfgeleiderlithografietechnologie en we hebben het afgelopen jaar onze EUV-expertise en -capaciteit opgebouwd. In nauwe samenwerking met ASML zullen we de hoge-resolutiepatronen van High-NA EUV benutten als een van de manieren waarop we de wet van Moore voortzetten en onze sterke geschiedenis van progressie tot in de kleinste geometrieën behouden”, aldus Dr. Ann Kelleher, executive vice president en general manager Technology Development bij Intel.
Het EXE-platform is een evolutionaire stap in EUV-technologie en omvat een novel optics design en significantly faster reticle and wafer stages. De TWINSCAN EXE:5000- en EXE:5200-systemen bieden een numerieke apertuur van 0,55 – een precisietoename ten opzichte van eerdere EUV-machines met een lens met een numerieke aperture van 0,33 – om patronen met een hogere resolutie mogelijk te maken voor nog kleinere transistorfuncties. De numerieke aperture van het systeem, gecombineerd met de gebruikte golflengte, bepaalt het kleinste afdrukbare kenmerk.
EUV 0.55 NA is ontworpen om meerdere toekomstige nodes mogelijk te maken, te beginnen in 2025 als de eerste implementatie in de branche, gevolgd door geheugentechnologieën met een vergelijkbare dichtheid. Op de Investor Day 2021 deelde ASML zijn EUV-roadmap en gaf aan dat High-NA-technologie naar verwachting in 2025 zal beginnen met het ondersteunen van de productie. De aankondiging van vandaag is in overeenstemming met deze routekaart.
ASML is een toonaangevende leverancier voor de halfgeleiderindustrie. Het bedrijf levert chipmakers hardware, software en diensten om de patronen van geïntegreerde schakelingen (microchips) in massa te produceren. Samen met zijn partners stimuleert ASML de ontwikkeling van meer betaalbare, krachtigere en energiezuinigere microchips. ASML maakt baanbrekende technologie mogelijk om enkele van de moeilijkste uitdagingen van de mensheid op te lossen, zoals op het gebied van gezondheidszorg, energieverbruik en -behoud, mobiliteit en landbouw. ASML is een multinational met hoofdkantoor in Veldhoven, Nederland, met kantoren in Europa, de VS en Azië. Elke dag dagen de meer dan 32.000 medewerkers van ASML de status quo uit en drijven ze technologie naar nieuwe grenzen.
