Imec versnelt de ontwikkeling van het High-NA EUV Patterning Ecosysteem
Deze week, op de 2022 SPIE Advanced Lithography and Patterning Conference, presenteert imec belangrijke vooruitgang…
Rubriek: EUV-masker
Imec demonstrates 24nm pitch lines with single exposure EUV lithography on ASML’s NXE:3400B scanner
Op de SPIE Advanced Lithography Conference, kondigden imec en ASML, ’s werelds toonaangevende fabrikant van…
