Imec en ASML Holding N.V. (ASML), ontwikkelaar en leverancier van lithografiesystemen voor chipproductie, kondigen vandaag de volgende stap in hun jarenlange samenwerking aan. Het doel van de hernieuwde en intensere samenwerking is om EUV-lithografie – een veelbelovende technologie die gebruik maakt van extreem ultraviolet licht (EUV) om op een efficiëntere manier geavanceerde microchips te maken – klaar te stomen voor de bredere chipindustrie. Met deze samenwerking verstevigt imec zijn toppositie in onderzoek naar de volgende generatie chiptechnologie, wat Vlaanderen op de wereldkaart zet als innovatieve regio. En ASML kan hierdoor ook in de toekomst steunen op imec’s essentiële expertise bij de verdere realisatie van hun meest vooruitstrevende lithografiesystemen.
De samenwerking tussen ASML en imec bouwt verder op een lange traditie van gezamenlijk onderzoek. Beide organisaties zijn al bijna 30 jaar partners. En in 2014 werd de strategische samenwerking naar een hoger niveau getild met de oprichting een gemeenschappelijk onderzoekscentrum, het Advanced Patterning Center, om lithografietechnologie te optimaliseren. Die samenwerking wordt nu verder uitgebreid. In de loop van 2019 zal ASML in de imec cleanroom één van hun meest geavanceerde EUV scanners (NXE:3400B) installeren. Op die manier krijgen de imec-onderzoekers en partners toegang tot de nieuwste technologie voor EUV-lithografie. Met een vermogen van 250 Watt behaalt het toestel bovendien een lang beoogd streefdoel in productiviteit van 125 wafers (siliciumschijven waarop microchips worden geproduceerd) per uur, wat deze nieuwste generatie EUV lithografietoestellen geschikt maakt voor de massaproductie van chips. Ter vergelijking: bij de eerste generatie NXE:3300 toestellen lag het aantal wafers dat verwerkt wordt op 21 per uur. Door intensief gezamenlijke onderzoek zijn ASML en imec erin geslaagd om hier de noodzakelijke vooruitgang te boeken.
Luc Van den hove, algemeen directeur en CEO imec: “Onze ultramoderne cleanroom is één van onze grootste troeven voor de wereldwijde chipindustrie, maar om relevant te blijven is het essentieel dat we beschikken over de nieuwste, meest geavanceerde systemen. Wat betreft lithografie is ASML de onbetwistbare leider. De afgelopen jaren hebben onze onderzoekers samen baanbrekend werk geleverd om efficiënte EUV-scanners mogelijk te maken. Dat wij de EUV scanner (NXE:3400B) nu ook in onze cleanroom ter beschikking kunnen stellen is een belangrijke meerwaarde voor onze partners en bestendigd onze relevantie voor de chipindustrie.”
Daarnaast wordt de samenwerking met ASML ook uitgebreid met een gemeenschappelijk onderzoekslab in Veldhoven. Daar zullen onderzoekers van imec en ASML experimenteren met een volgende generatie van EUV-lithografie die noodzakelijk is om de basisbouwblokken van chips, transistoren, nog kleiner te maken en dus nog krachtiger chips te bouwen dan vandaag mogelijk is. Dit onderzoek zal gebeuren op een nieuw EUV-lithografiesysteem met hogere Numerische Apertuur (NA). Omdat systemen met een hogere NA het EUV-licht vanuit een bredere invalshoek kunnen projecteren op de wafer, kunnen ze nog fijnere patronen creëren.
Martin van den Brink, President & Chief Technology Officer bij ASML: “We zijn erg verheugd om deze volgende stap te zetten in onze lange en diepe samenwerking met imec. Toegang tot de meest geavanceerde halfgeleiderlithografietools is van vitaal belang voor het verkennen en bepalen van weg naar toekomstige generaties van halfgeleiderapparaten en -toepassingen. Imec’s onderzoekers en klanten kunnen nog vele jaren zeker zijn van de meest actuele holistische lithografietechnologie. De halfgeleiderindustrie en consumenten en bedrijven over de hele wereld zullen profiteren van de vruchten van het werk van imec in het komende decennium, resulterend in voortdurende verbeteringen in de kosten en prestaties van microchips.”
