ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology (SMT) is gestart met de bouwwerkzaamheden voor de uitbreiding van de Wetzlar-site. In de toekomst zal een oppervlakte van meer dan 12.000 vierkante meter worden gewijd aan de ontwikkeling en productie van lithografie-optica voor de wereldwijde productie van microchips. Deze uitbreiding is het antwoord van ZEISS op de wereldwijde groei van de vraag naar microchips in de semiconductor industry.
- De grote vraag naar semiconductor manufacturing equipment als gevolg van megatrends vereist meer productiecapaciteit.
- Nieuwe multifunctionele fabriek in Dillfeld in Wetzlar met meer dan 12.000 vierkante meter biedt flexibele werkruimtes in trillingsarmend ontwerp voor optica, coating en assemblage.
- Er zullen 150 nieuwe banen worden gecreëerd in de productie en ontwikkeling.
De megatrends die gepaard gaan met digitalisering – Industrie 4.0, autonoom rijden en 5G – betekenen dat er steeds meer microchips nodig zijn. “We zien een steeds groeiende marktvraag naar semiconductor manufacturing equipment. Onze lithografie-optica stelt chipfabrikanten wereldwijd in staat om microchips met nanometerprecisie te produceren”, zegt Katrin Ariki, Site Manager van Wetzlar. Wetzlar is al meer dan twintig jaar een van zeiss’s productielocaties voor DUV-lithografie-optica, maar de bestaande productiecapaciteiten bereiken nu hun grenzen.
Nieuwe multifunctionele fabriek breidt ontwikkelings- en productiecapaciteit uit
Het nieuwe gebouw in de industriezone Dillfeld vormt een aanvulling op de bestaande locatie in het centrum van Wetzlar, die ook wordt gerenoveerd. “We hebben verschillende nieuwe concepten getest voor het automatiseren van onze productie op de bestaande locatie en nemen de bevindingen nu op in het nieuwe gebouw”, legt Ariki uit. In de toekomst zullen ongeveer 150 geschoolde medewerkers producten zoals ultramoderne DUV- illumination systems produceren in een productieruimte van meer dan 12.000 vierkante meter. Het gebouw moet dus aan specifieke eisen voldoen. “Nanometerprecisie is een must voor onze producten, dus we besteden bijzondere aandacht aan het waarborgen van een trillingsvrij gebouwontwerp voor onze gevoelige meettechnologie,” vervolgt Ariki. De nieuwe fabriek wordt ook gericht op maximale flexibiliteit. “We kunnen de werkgebieden voor optiek, coating en assemblage eenvoudig aanpassen aan nieuwe eisen”, zegt ze. In het kantoorgebouw komen werkplaatsen, kleedkamers, sociale voorzieningen, een kantine en een cafetaria.
Bij de productie van microchips worden de structuren op de wafers gemaakt door photomasks bloot te stellen aan short-wavelength light. De microchips worden uit deze wafers gesneden en worden vervolgens gebruikt in producten zoals computers. DUV (deep ultraviolet) technologie en ultraviolet licht worden in de overgrote meerderheid van de gevallen gebruikt. ZEISS produceert de nodige optiek voor golflengten van 365, 248 en 193 nanometer. Ter vergelijking: het menselijk oog kan golflengten detecteren die variëren van ongeveer 380 tot 780 nanometer. Meer dan 80 procent van ’s werelds microchips wordt vervaardigd met behulp van deze optica van ZEISS.