Veeco Instruments Inc. heeft vandaag aangekondigd dat zij het eerste LSA101 Laser Spike Annealing Systeem vanuit hun nieuwe vestiging in San Jose, Californië, hebben verscheept naar een halfgeleiderfabrikant. Veeco’s nieuwe, SEMI-conforme faciliteit dient als het centrum van excellentie van het bedrijf voor de ontwikkeling en productie van laser-annealing en geavanceerde packaging lithography systems voor halfgeleidertoepassingen.
“We zijn er bijzonder trots op dat we ons eerste LSA-systeem kunnen verschepen vanuit onze ultramoderne faciliteit in het hart van Silicon Valley”, aldus Bill Miller, Chief Executive Officer van Veeco. “In lijn met de groeistrategie van het bedrijf stelt deze nieuwe productieruimte Veeco in staat ’s werelds toonaangevende leveranciers van halfgeleiderchips te bedienen met een grotere capaciteit en labruimte van wereldklasse. We kijken ernaar uit om onze klanten op het gebied van laser Annealing en geavanceerde packaging lithografie de komende jaren te laten kennismaken met deze toplocatie. Dank aan het Veeco-team dat ijverig en volgens een versneld tijdschema heeft gewerkt om deze opwindende mijlpaal in Veeco’s geschiedenis mogelijk te maken.”
Veeco’s nieuwe faciliteit beschikt over ongeveer 70.000 vierkante meter productie- en engineeringlaboratoriumruimte en 30.000 vierkante meter kantoorruimte. De productieruimte zal bijna twee keer zo groot zijn als in Veeco’s vorige vestiging in San Jose en zal de productie-efficiëntie verbeteren. De nieuwe faciliteit is speciaal ontworpen om te voldoen aan de groeiende vraag naar Veeco’s laser-annealing en geavanceerde Packaging lithografietechnologieën.
Voor geavanceerde halfgeleiderproducten is een hogere temperatuur nodig voor de activering van doteringsmateriaal en een kortere tijd bij temperatuur om de verspreiding van dopant activation te voorkomen. Veeco’s gepatenteerde LSA101® en LSA201® Laser Spike Annealing (LSA) systemen leveren de hoogste temperaturen in een microseconde tijdschaal. De unieke aard van het LSA-platform stelt onze klanten in staat om complexe patronen te Annealing met hoge temperatuuruniformiteit en precisie, wat zeer gewenst is bij advanced device processing. Bron Semicon Digest.
