Imec demonstreert gereedheid van het High-NA EUV Patterning Ecosysteem
Deze week, op de 2024 2024 Advanced Lithography + Patterning Conference, presenteert imec, een wereldwijd…
Rubriek: Steven Scheer
Imec demonstrates 24nm pitch lines with single exposure EUV lithography on ASML’s NXE:3400B scanner
Op de SPIE Advanced Lithography Conference, kondigden imec en ASML, ‘s werelds toonaangevende fabrikant van…
