Op 13 december wordt de Werner von Siemens Ring uitgereikt aan de EUV-ontwikkelingsteams van ZEISS en TRUMPF.
De 42e “Werner von Siemens Ring” wordt uitgereikt aan de EUV-ontwikkelingsteams van ZEISS en TRUMPF.…
Rubriek: euv-lithografie
Trumpf: het bepalen van kerncompetenties wordt cruciaal voor bedrijven
Link magazine is niet de enige jubilaris. Ook bij Trumpf hadden ze eerder dit jaar…
MESA+ ontwikkelt nieuw instrument om de productiviteit van lithografiemachines te verbeteren
Onderzoekers van MESA+ ontwikkelden een instrument dat tegelijkertijd de grootte van een plasmabron als de kleur van…
EBeam-technologie van de volgende generatie uit het lab halen en in de Fab
De complexiteit van halfgeleiders blijft toenemen met elk nieuw procesknooppunt, omdat de industrie de grenzen…
Imec versnelt de ontwikkeling van het High-NA EUV Patterning Ecosysteem
Deze week, op de 2022 SPIE Advanced Lithography and Patterning Conference, presenteert imec belangrijke vooruitgang…
Imec en Buhler Leybold maken doorvoerproductie mogelijk van filter-op-chip CMOS-sensoren met ongeëvenaarde precisie
Buhler Leybold Optics, een leverancier van geavanceerde dunne-film vacuüm coaters en imec, een wereldwijd toonaangevend…
Nieuwe systemen KLA: antwoord op inspectie-uitdagingen steeds ‘hogere’ 3D-structuren chips
KLA heeft twee nieuwe producten aangekondigd: het PWG5™ wafergeometrie-systeem en het Surfscan® SP7XP waferdefect-inspectiesysteem. De nieuwe…
ASML NXE:3400C: Inspectiekosten omlaag, yield omhoog
ASML bevestigde medio april, bij de presentatie van de cijfers over het eerste kwartaal, dat…
Imec en ASML versterken hun samenwerking en openen gemeenschappelijk onderzoekslab in Veldhoven.
Imec en ASML Holding N.V. (ASML), ontwikkelaar en leverancier van lithografiesystemen voor chipproductie, kondigen vandaag…
Erik Loopstra en Vadim Banine ontvangen European Inventor Award voor geavanceerde microchipproductie
Het European Inventor Award kondigde vandaag de winnaars van de European Inventor Award 2018 aan…
Imec duwt de grenzen van EUV Lithography Single Exposure voor Logic N5 metaallagen en Dense DRAM-toepassingen
Imec, ’s werelds toonaangevende onderzoeks- en innovatiehub op het gebied van nano-elektronica en digitale technologie,…
Kostbare testfaciliteit TNO moet bijdragen aan economisch succes euv
Hoe minder de spiegels in de chipproductiemachines van ASML het kostbare extreem ultraviolet (euv) licht…
Partnership TNO-Ushio voor euv-lithografie
TNO en de Japanse lichtbronspecialist Ushio gaan samen extreme ultraviolet (euv)-lithografie ontwikkelen voor de productie…
