Roland van Vliet Nearfield Instruments B.V.
Atoomschaalafmetingen
De wereld verlangt naar krachtigere en minder energievretende elektronica voor mobiele apparaten en computersystemen. Om nieuwe functionaliteiten te bereiken en optimaal gebruik te maken van de beschikbare IC-apparaten (Wafer Space Integrated Circuit), krimpen ze tot atomaire schaalafmetingen met behulp van nieuwe, gevoelige materialen, terwijl ze tegelijkertijd worden ontworpen in een volledige driedimensionale configuratie. Om tegemoet te komen aan deze trends op een technologisch en economisch haalbare manier zijn doorbraken in metrologieprocessen en apparatuur voor de ontwikkeling en productie van IC-apparaten vereist. Anders zou de wet van Moore ten einde zijn. De wet van Moore is de waarneming dat het aantal transistoren in een dichte IC ongeveer elke twee jaar verdubbelt.
Atomic Force Microscopy tot wel 1000x sneller
Atomic Force Microscopy (AFM) is een bekende technologie voor het weergeven van de kleinste functies en wordt vaak toegepast in onderzoek. Een AFM-systeem gebruikt een atomisch scherpe sonde om het oppervlak van het te onderzoeken monster te scannen (maar raakt het niet aan) om het patroon erop te detecteren. AFM werd echter altijd als te langzaam beschouwd voor industriële toepassingen. Vijf jaar geleden startte TNO het NOMI-programma (Nano-Optomechatronics Instrumentation), waarin wetenschappelijk onderzoek wordt gecombineerd met applicatiekennis, wat heeft geleid tot meerdere verbeteringen aan deze technologie met het potentieel om AFM tot wel 1000x sneller te maken dan de traditionele AFM -technologie. Dit maakt de AFM-oplossing van Nearfield Instruments van groot belang voor de halfgeleiderindustrie.
Dr. Hamed Sadeghian, hoofdwetenschapper bij TNO, wetenschappelijk leider van NOMI en CTO van Nearfield Instruments: “Deze gepatenteerde revolutionaire architectuur is gebaseerd op parallelliserende AFM. De parallellisatie wordt bereikt door de AFM te miniaturiseren en veel van deze tegelijkertijd te bedienen. Dit instrument heeft het voordeel dat elke geminiaturiseerde AFM onafhankelijk kan worden bediend, waardoor men verschillende fysieke parameters tegelijkertijd kan meten; terwijl een mini-AFM nanoschaaltopografie meet, kan een ander instrument mechanische, elektrische of thermische eigenschappen meten, waardoor het een lab-on-an-instrument wordt. De sleutel hiervoor was om AFM te verkleinen naar de grootte van een luciferdoos om een ??zeer hoge meetbandbreedte te bereiken, terwijl een zeer hoge stabiliteit van nanoimaging werd bereikt door de metrologielus te verkorten.
TNO-spin-off
Om de marktintroductie van deze High-Throughput AFM te versnellen, lanceerde TNO in 2016 het spin-off bedrijf Nearfield Instruments B.V. in Delft, Nederland. Binnen de komende jaren zal Nearfield Instruments HT-AFM ontwikkelen tot een levensvatbaar product voor de halfgeleidermarkt. CEO van Nearfield Instruments Dr. Roland van Vliet: “De steun en toewijding van onze nieuwe partners Samsung Venture Investment Corporation en Innovation Industries biedt ons bij Nearfield Instruments de juiste expertise en momentum om atoomschaalmetrologie te realiseren op doorvoer op bedrijfstakniveau. . Samen zullen we de halfgeleiderindustrie in staat stellen continu te streven naar nog krachtiger en minder energieverbruikende elektronica. “
