Partnership TNO-Ushio voor euv-lithografie

TNO en de Japanse lichtbronspecialist Ushio gaan samen extreme ultraviolet (euv)-lithografie ontwikkelen voor de productie van de volgende generatie halfgeleiders. Zij bouwen in Delft een belichtings- en analysefaciliteit voor experimenteel onderzoek naar het effect van euv-licht op de optica en componenten en materialen voor de verwerking van halfgeleiders. Uiteindelijk doel is de ontwikkeling van systemen, maskers en membranen (‘pellicles’) te versnellen.