Holland High Tech: 43 onderzoeksprojecten goedgekeurd, 44,5 miljoen euro.
Binnen de PPS-toeslagregeling van het ministerie van Economische Zaken & Klimaat heeft Holland High Tech…
Rubriek: ARCNL
MESA+ ontwikkelt nieuw instrument om de productiviteit van lithografiemachines te verbeteren
Onderzoekers van MESA+ ontwikkelden een instrument dat tegelijkertijd de grootte van een plasmabron als de kleur van…
TU Delft, ARCNL en ASML werken samen om computerchips preciezer en sneller te kunnen inspecteren.
NWO heeft binnen de KIC-call ‘Vraaggedreven Partnerschappen voor Consortia’ subsidie toegewezen voor onderzoek naar efficiëntere…
Superresolutie-microscopie voorbij de grenzen van resolutie en snelheid
Onderzoekers van ARCNL en de Vrije Universiteit Amsterdam hebben een compacte techniek ontwikkeld voor snelle…
‘Nederland hightech’ weer nadrukkelijk aanwezig in Hannover
Met Barack Obama lijkt de Hannover Messe vorig jaar net op tijd een Amerikaanse president…
‘EUV nog beter en sneller maken, daar dragen wij aan bij’
Joost Frenken, directeur onderzoekinstituut ARCNL Voor het bijbenen van de Wet van Moore is ook…
